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    微射流均質(zhì)機(jī)破碎納米顆粒團(tuán)簇的機(jī)理研究

    來源:諾澤流體科技(上海)有限公司   2025年11月14日 13:43  

    微射流均質(zhì)機(jī)破碎納米顆粒團(tuán)簇的機(jī)理研究

    一、介紹

    本文隸屬于微射流均質(zhì)機(jī)應(yīng)用專題,全文共 42000字,閱讀大約需要 20 分鐘。

    摘要

    微射流均質(zhì)機(jī)能高效地將納米二氧化硅團(tuán)簇解聚成約150納米的聚集體。其破碎機(jī)制主要為侵蝕,且最終細(xì)度由材料本身決定。研究發(fā)現(xiàn),實(shí)現(xiàn)解聚所需的能量(表現(xiàn)為操作壓力和處理次數(shù))隨顆粒濃度或液體粘度的增加而增加,其中粘度升高因抑制湍流而影響更為顯著。該設(shè)備功率密度高,甚至能將高濃度下的凝膠狀分散體轉(zhuǎn)變?yōu)榈驼扯鹊呐nD流體,展現(xiàn)出強(qiáng)大的分散能力。

    關(guān)鍵詞

    微射流均質(zhì)機(jī);納米顆粒分散;破碎;斷裂;解聚

    二、整體框架

    三、引言

    微射流處理器作為高功率密度設(shè)備,廣泛應(yīng)用于乳液、懸浮液、細(xì)胞破碎及納米材料合成等過程。隨著納米技術(shù)的飛速發(fā)展,實(shí)現(xiàn)納米顆粒在液體中的高效分散(解團(tuán)聚)已成為其商業(yè)化應(yīng)用的關(guān)鍵步驟。

    然而,納米顆粒的大規(guī)模生產(chǎn)通常采用火焰熱解法,所得到的粉末由初級(jí)顆粒形成的團(tuán)聚體和聚集體組成。

    使用常規(guī)攪拌器無法達(dá)到亞微米級(jí)的分散效果,因此必須依賴轉(zhuǎn)子-定子器、高壓均質(zhì)機(jī)等高強(qiáng)度設(shè)備。本研究旨在系統(tǒng)評(píng)估一款商用微射流處理器在解聚納米二氧化硅團(tuán)簇時(shí)的性能、機(jī)理與動(dòng)力學(xué),以期為工藝設(shè)計(jì)和放大提供依據(jù)。

    解聚過程可通過剝離、斷裂或粉碎三種機(jī)制實(shí)現(xiàn),不同破碎機(jī)制會(huì)導(dǎo)致在處理過程中顆粒粒徑分布(PSD)呈現(xiàn)出不同的變化趨勢(shì),具體如圖 1b 所示
    解聚過程可通過剝離、斷裂或粉碎三種機(jī)制實(shí)現(xiàn),不同破碎機(jī)制會(huì)導(dǎo)致在處理過程中顆粒粒徑分布(PSD)呈現(xiàn)出不同的變化趨勢(shì),具體如圖 1b 所示

    術(shù)語解釋

    英文術(shù)語中文翻譯定義
    Rupture斷裂指團(tuán)聚體在外力作用下發(fā)生斷裂,被分割為若干較大碎片的過程。本文將其與侵蝕、破碎并列為納米顆粒團(tuán)簇的三種主要破碎機(jī)制,不同機(jī)制對(duì)應(yīng)獨(dú)特的粒徑分布演變特征。
    Erosion侵蝕指通過流體剪切力從團(tuán)聚體表面持續(xù)剝離出細(xì)小顆粒(通常為初級(jí)顆粒或微小團(tuán)聚體)的過程。研究證實(shí),此為Microfluidizer M110-P處理Aerosil® 200V二氧化硅團(tuán)簇的主導(dǎo)破碎機(jī)制,且與轉(zhuǎn)子-定子設(shè)備觀察結(jié)果一致。
    Shattering破碎指團(tuán)聚體在高應(yīng)力下瞬間崩解為大量粒徑分布廣泛的碎片。本文將其視為一種潛在的團(tuán)簇破碎機(jī)制,其導(dǎo)致的粒徑分布演變規(guī)律與斷裂和侵蝕存在顯著差異。
    Kolmogorov microscale (λ?)柯爾莫哥洛夫微尺度表征湍流中最小的渦旋尺度,計(jì)算公式為 (λ? = ν^{3/4}/ε^{1/4})。本研究指出,連續(xù)相粘度升高會(huì)導(dǎo)致λ?增大,使得湍流渦旋尺度變大,從而削弱其對(duì)納米團(tuán)簇的破碎效率。
    Reynolds number (Re)雷諾數(shù)用于判定流體流動(dòng)狀態(tài)的無量綱數(shù),本研究采用 (Re = 4Q_i ρ / (μπd)) 進(jìn)行計(jì)算。數(shù)據(jù)分析表明,連續(xù)相粘度增加會(huì)顯著降低Re(例如從3.8×10?降至8.8×102),致使流動(dòng)由湍流向?qū)恿鬟^渡,此為高粘度體系中破碎動(dòng)力學(xué)減慢的主因。
    d?? (Sauter mean diameter)索特平均直徑采用面積加權(quán)平均算法表征顆粒群比表面積的當(dāng)量直徑。本研究結(jié)果表明,在不同操作條件(壓力、濃度、粘度)下,Aerosil® 200V經(jīng)破碎后其細(xì)顆粒的d??穩(wěn)定于約150 nm,此尺寸被認(rèn)定為機(jī)械破碎所能達(dá)到的極限(聚集體尺寸),遠(yuǎn)大于其12 nm的初級(jí)粒徑。

    四、基本流程

    項(xiàng)目內(nèi)容
    核心設(shè)備微射流均質(zhì)機(jī)(Z型相互作用腔室,通道尺寸100 µm)
    對(duì)比設(shè)備Silverson 在線轉(zhuǎn)子-定子器(配備EMSC乳化頭)
    操作壓力35, 69, 103 MPa(即 5, 10, 15 kpsi)
    分散相Aerosil® 200V 氣相二氧化硅(初級(jí)粒徑12 nm,親水)
    連續(xù)相蒸餾水(粘度 0.001 Pa·s)與甘油溶液(粘度 0.01, 0.09 Pa·s)
    研究變量顆粒濃度(1, 5, 10, 15, 17% wt.);連續(xù)相粘度(1% wt.下)
    預(yù)處理使用Hielscher UP200S超聲儀進(jìn)行初步分散,防止堵塞
    表征方法粒徑分析(Beckman Coulter LS230);形貌觀測(cè)(FEI XL30 SFEG SEM);流變測(cè)量(Anton Paar Rheolab QC)
    氣相二氧化硅?200V分散體的形態(tài)
    氣相二氧化硅?200V分散體的形態(tài)

    五、結(jié)果與討論

    功率輸入

    通過脈沖體積法計(jì)算出微射流均質(zhì)機(jī)在35至103 MPa操作壓力下的功率密度高達(dá)7.8×103至1.5×10? kW/m3,這一數(shù)值較傳統(tǒng)在線或批次轉(zhuǎn)子-定子器高出三個(gè)數(shù)量級(jí),從而揭示了該設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)納米團(tuán)簇高效解聚的核心優(yōu)勢(shì)在于其高的能量輸入強(qiáng)度。

    微射流均質(zhì)機(jī)的功率和比功率輸入與在線式和間歇式轉(zhuǎn)子定子所獲得的功率和比功率輸入的比較
    微射流均質(zhì)機(jī)的功率和比功率輸入與在線式和間歇式轉(zhuǎn)子定子所獲得的功率和比功率輸入的比較
    1%氣相二氧化硅在甘油中的分散體的流動(dòng)曲線
    1%氣相二氧化硅在甘油中的分散體的流動(dòng)曲線

    分散介質(zhì)流變學(xué)

    低濃度(1%)Aerosil® 200V甘油分散體(粘度0.01及0.09 Pa·s)的流變行為與純?nèi)軇┮恢拢憩F(xiàn)為牛頓流體,表明低固含量下顆粒未形成空間網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。

    相比之下,高濃度(15%和17%)水基預(yù)分散體呈現(xiàn)出典型的假塑性剪切稀化行為,其流動(dòng)曲線符合冪律模型(如15%濃度時(shí),τ=0.033γ?^0.81,r2=0.9998),證實(shí)顆粒間形成了凝膠狀三維網(wǎng)絡(luò)。

    最關(guān)鍵的是,經(jīng)微射流均質(zhì)機(jī)高剪切處理(如15%濃度樣品經(jīng)過一次通過)后,該網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)被有效破壞,分散體流變行為轉(zhuǎn)變?yōu)榕nD流體,且粘度顯著降低至約0.004-0.006 Pa·s,這一轉(zhuǎn)變直觀印證了設(shè)備強(qiáng)大的解聚與結(jié)構(gòu)破壞能力。

    15%氣相二氧化硅在水中的預(yù)分散體以及使用微射流處理過程中的流動(dòng)曲線。
    15%氣相二氧化硅在水中的預(yù)分散體以及使用微射流處理過程中的流動(dòng)曲線。
    15%和17%的預(yù)分散體以及17%氣相二氧化硅在水中的最終分散體的流動(dòng)曲線比較。
    15%和17%的預(yù)分散體以及17%氣相二氧化硅在水中的最終分散體的流動(dòng)曲線比較。
    在35MPa的操作壓力下,1%氣相二氧化硅在甘油溶液(粘度為0.01Pa秒)中的粒度分布演變
    在35MPa的操作壓力下,1%氣相二氧化硅在甘油溶液(粘度為0.01Pa秒)中的粒度分布演變

    微射流均質(zhì)機(jī)破碎納米顆粒團(tuán)簇的機(jī)制

    研究明確揭示了微射流均質(zhì)機(jī)破碎納米顆粒團(tuán)簇的主導(dǎo)機(jī)理為侵蝕。粒徑分布的演變顯示,處理過程中較大的團(tuán)簇尺寸逐漸減小,同時(shí)亞微米細(xì)顆粒的比例穩(wěn)步增加,這是侵蝕作用的典型特征。該機(jī)理與作者前期采用在線轉(zhuǎn)子-定子器研究同一物系的結(jié)論一致。這表明,即使在高功率密度的微射流均質(zhì)機(jī)中,破碎機(jī)理主要由材料本身的性質(zhì)(固-液體系)決定,而非設(shè)備類型或操作條件。由于處理后粒徑分布常呈現(xiàn)雙峰特征,后續(xù)分析聚焦于亞微米細(xì)顆粒的索特平均直徑及其體積分?jǐn)?shù)的變化。

    顆粒濃度與功率輸入對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的綜合影響

    在低濃度條件下(1%和5%),僅需單次通過微射流均質(zhì)機(jī)即可實(shí)現(xiàn)團(tuán)簇的解聚。然而,當(dāng)濃度提升至10%及以上時(shí),為實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)別的分散,必須增加處理次數(shù)或提高操作壓力(即功率輸入)。粒徑分布的演變特征進(jìn)一步證實(shí),在所有濃度下,破碎的主導(dǎo)機(jī)理均為侵蝕。具體數(shù)據(jù)表明,首輪處理可使細(xì)顆粒分?jǐn)?shù)達(dá)到85%以上,而通過優(yōu)化操作條件,最終均可實(shí)現(xiàn)100%的解聚目標(biāo)。這證明,針對(duì)高濃度體系,可通過增強(qiáng)能量輸入有效克服其破碎動(dòng)力學(xué)的減緩。

    隨著固體濃度增加,微流控均質(zhì)機(jī)性能的研究結(jié)果總結(jié):在不同操作壓力下每次通過時(shí)細(xì)顆粒的百分比
    隨著固體濃度增加,微流控均質(zhì)機(jī)性能的研究結(jié)果總結(jié):在不同操作壓力下每次通過時(shí)細(xì)顆粒的百分比
    5%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為35兆帕
    5%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為35兆帕
    10%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為35兆帕
    10%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為35兆帕
    10%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為69兆帕
    10%的氣相二氧化硅水懸浮液,壓力為69兆帕
    隨著顆粒濃度增加微射流均質(zhì)機(jī)性能結(jié)果總結(jié):實(shí)現(xiàn)100%破碎成細(xì)粉所需的通過次數(shù)
    隨著顆粒濃度增加微射流均質(zhì)機(jī)性能結(jié)果總結(jié):實(shí)現(xiàn)100%破碎成細(xì)粉所需的通過次數(shù)
    顆粒濃度和操作壓力(功率輸入)對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的影響
    顆粒濃度和操作壓力(功率輸入)對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的影響
    在103兆帕下運(yùn)行的微射流均質(zhì)機(jī),在0.01帕·秒的甘油中破碎1%氣相二氧化硅時(shí)粒徑分布的演變。
    在103兆帕下運(yùn)行的微射流均質(zhì)機(jī),在0.01帕·秒的甘油中破碎1%氣相二氧化硅時(shí)粒徑分布的演變。

    分散介質(zhì)黏度與功率輸入對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的綜合影響

    維持1%的低顆粒濃度,將分散介質(zhì)粘度從0.001 Pa·s(水)提升至0.01 Pa·s(甘油溶液)后,在35 MPa壓力下所需的解聚次數(shù)從1次增加至3次。當(dāng)粘度進(jìn)一步增至0.09 Pa·s時(shí),破碎過程進(jìn)一步延緩。然而,通過提高操作壓力(即功率輸入)可有效補(bǔ)償高粘度帶來的負(fù)面效應(yīng),例如在103 MPa下,處理0.09 Pa·s的分散體僅需2次通過即可完成解聚。與顆粒濃度的影響相比,粘度的增加對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的減緩作用更為劇烈,這歸因于高粘度會(huì)顯著降低雷諾數(shù)、增大柯爾莫哥洛夫微尺度,從而抑制湍流強(qiáng)度。

    在不同操作壓力下每次通過所獲得的細(xì)顆粒百分比
    在不同操作壓力下每次通過所獲得的細(xì)顆粒百分比
    69MPa對(duì)0.09Pa·s甘油分散體中1%氣相二氧化硅破碎過程的影響。
    69MPa對(duì)0.09Pa·s甘油分散體中1%氣相二氧化硅破碎過程的影響。
    103MPa對(duì)0.09Pa·s甘油分散體中1%氣相二氧化硅破碎過程的影響。
    103MPa對(duì)0.09Pa·s甘油分散體中1%氣相二氧化硅破碎過程的影響。
    實(shí)現(xiàn)100%破碎成細(xì)粉所需的通過次數(shù)
    實(shí)現(xiàn)100%破碎成細(xì)粉所需的通過次數(shù)

    分散極限 —— 可獲得的最小粒徑

    無論操作壓力、顆粒濃度或連續(xù)相粘度如何變化,所得細(xì)顆粒的索特平均直徑均穩(wěn)定在150納米左右。該尺寸遠(yuǎn)大于標(biāo)示的12納米初級(jí)粒徑,表明機(jī)械破碎的極限并非初級(jí)顆粒,而是其聚集體

    這一現(xiàn)象根源于材料的生產(chǎn)工藝:火焰法在溫度下使初級(jí)粒子碰撞、合并并通過牢固的橋鍵部分熔合,通過牢固的-Si-O-Si-橋鍵部分熔合,形成難以被機(jī)械力拆散的整體性聚集體。因此,最小可達(dá)尺寸本質(zhì)上是由材料本身的特性所決定的

    設(shè)備性能對(duì)比

    微射流均質(zhì)機(jī)與在線轉(zhuǎn)子-定子器的性能進(jìn)行了對(duì)比。結(jié)果表明,兩種設(shè)備的主導(dǎo)破碎機(jī)理均為侵蝕,且最終所能達(dá)到的細(xì)顆粒平均直徑也相同(約150納米),這再次證明最終分散細(xì)度由材料屬性決定。在能量密度相近時(shí),兩者在低粘度流體中的破碎動(dòng)力學(xué)相似;然而,在高粘度條件下,微射流均質(zhì)機(jī)表現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì),其細(xì)顆粒生成速率遠(yuǎn)高于轉(zhuǎn)子-定子器。這一差異歸因于微射流均質(zhì)機(jī)能夠提供高出數(shù)個(gè)數(shù)量級(jí)的功率密度,從而更有效地克服高粘度對(duì)湍流的抑制作用。盡管兩種設(shè)備因處理規(guī)模不同(實(shí)驗(yàn)室級(jí)與工業(yè)級(jí))而非直接替代關(guān)系,但比較結(jié)果突顯了微射流均質(zhì)機(jī)在處理高粘度納米分散體系方面的性能。

    分散介質(zhì)粘度和操作壓力(功率輸入)對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的影響
    分散介質(zhì)粘度和操作壓力(功率輸入)對(duì)破碎動(dòng)力學(xué)的影響
    使用微射流均質(zhì)機(jī)獲得的細(xì)顆粒的索特平均直徑
    使用微射流均質(zhì)機(jī)獲得的細(xì)顆粒的索特平均直徑
    使用微射流均質(zhì)機(jī)和在線轉(zhuǎn)子-定子獲得的細(xì)顆粒的索特平均直徑的比較
    使用微射流均質(zhì)機(jī)和在線轉(zhuǎn)子-定子獲得的細(xì)顆粒的索特平均直徑的比較

    六、結(jié)論

    本研究系統(tǒng)評(píng)估了微射流均質(zhì)機(jī)用于解聚納米二氧化硅團(tuán)簇的性能,得出以下核心結(jié)論:

    1. 高效解聚能力:該設(shè)備能有效實(shí)現(xiàn)解聚,在高達(dá)17%的顆粒濃度和0.09 Pa·s的粘度范圍內(nèi),均可獲得約150納米細(xì)度的分散體。

    2. 破碎機(jī)理與極限:破碎主導(dǎo)機(jī)理為侵蝕,且最小可達(dá)尺寸由材料本身屬性決定,機(jī)械力無法破壞火焰法形成的牢固聚集體。

    3. 關(guān)鍵操作參數(shù)

      • 低濃度/粘度下單次通過即可完成破碎。
      • 顆粒濃度連續(xù)相粘度增加,破碎動(dòng)力學(xué)減緩,需更高通過次數(shù)或操作壓力(能量輸入)來實(shí)現(xiàn)分散。
      • 粘度增加通過降低雷諾數(shù)、抑制湍流,對(duì)動(dòng)力學(xué)的影響比濃度增加更為顯著
    4. 流變行為轉(zhuǎn)變:設(shè)備的高剪切力能破壞高濃度分散體的三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),使其從假塑性流體轉(zhuǎn)變?yōu)榕nD流體。

    5. 設(shè)備性能優(yōu)勢(shì):其功率密度使其在高粘度體系中的破碎效率優(yōu)于在線轉(zhuǎn)子-定子器

    微射流均質(zhì)機(jī)是規(guī)模制備納米分散體的強(qiáng)大工具,其破碎機(jī)理與最終細(xì)度由材料決定,而破碎動(dòng)力學(xué)可通過操作參數(shù)優(yōu)化。

    微射流均質(zhì)處理整體解決方案


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