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半導(dǎo)體是用水密集型產(chǎn)業(yè)。隨著芯片制程提高清洗步驟也相應(yīng)增多,用水量會(huì)呈指數(shù)級提升。典型的8寸晶圓的生產(chǎn)制造每片需要消耗約2-4噸水,大于28納米制程的12寸晶圓生產(chǎn)制造每片需要消耗約6-7噸水;當(dāng)制程達(dá)到14-28納米時(shí)每片需要消耗約18-20噸水。而晶圓廠的產(chǎn)能,通常是每月數(shù)萬片甚至數(shù)十萬片,耗水量可謂驚人。
據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,中國半導(dǎo)體行業(yè)吸收了27%的工業(yè)用水,且一直存在水資源利用率不高的問題。當(dāng)前許多企業(yè)超純水制造工藝從原水進(jìn)水到產(chǎn)品水出水的回收率一般都低于50%,很大地浪費(fèi)了水資源,這種情況不僅增加了半導(dǎo)體制造單位的運(yùn)行成本,還對水資源的安全性構(gòu)成了威脅。

在這種情況下,半導(dǎo)體企業(yè)使用、處理和管理水資源變得愈加重要。許多半導(dǎo)體企業(yè)積極尋求與擁有循環(huán)再生解決方案的超純水企業(yè)合作,進(jìn)行綠色水系統(tǒng)生產(chǎn)制造,以提升水資源利用率,降低運(yùn)行成本,保障水資源安全。
作為行業(yè)超純水生產(chǎn)工藝技術(shù)服務(wù)商,萊特萊德積極尋求水處理的技術(shù)突破,致力為半導(dǎo)體制造等行業(yè)客戶提供超純水方案及裝備。
萊特萊德超純水設(shè)備配備EDI裝置搭配拋光工藝處理,運(yùn)行穩(wěn)定,產(chǎn)水質(zhì)量高,可達(dá)到18MΩ·cm。EDI設(shè)備無需酸堿再生,可以節(jié)省一定的水處理耗材,且可以節(jié)約酸堿清洗用水,同時(shí)降低了污染。該超純水設(shè)備自動(dòng)化程度高,有效降低了勞動(dòng)力的投入,節(jié)約了用戶生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效益,整套設(shè)備性能高,使用期限長。
超純水設(shè)備在出廠時(shí)都需要對設(shè)備進(jìn)行調(diào)試,所以設(shè)備故障率低,日常維護(hù)、保養(yǎng)等操作非常簡單。超純水設(shè)備的應(yīng)用將純水技術(shù)提升到一個(gè)高度,為各行業(yè)的水處理提供高效技術(shù)支撐。
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