超純水設備為半導體行業用水提供高效技術支撐

半導體是用水密集型產業。隨著芯片制程提高清洗步驟也相應增多，用水量會呈指數級提升。典型的8寸晶圓的生產制造每片需要消耗約2-4噸水，大于28納米制程的12寸晶圓生產制造每片需要消耗約6-7噸水；當制程達到14-28納米時每片需要消耗約18-20噸水。而晶圓廠的產能，通常是每月數萬片甚至數十萬片，耗水量可謂驚人。

據統計數據顯示，中國半導體行業吸收了27%的工業用水，且一直存在水資源利用率不高的問題。當前許多企業超純水制造工藝從原水進水到產品水出水的回收率一般都低于50%，很大地浪費了水資源，這種情況不僅增加了半導體制造單位的運行成本，還對水資源的安全性構成了威脅。

在這種情況下，半導體企業使用、處理和管理水資源變得愈加重要。許多半導體企業積極尋求與擁有循環再生解決方案的超純水企業合作，進行綠色水系統生產制造，以提升水資源利用率，降低運行成本，保障水資源安全。

作為行業超純水生產工藝技術服務商，萊特萊德積極尋求水處理的技術突破，致力為半導體制造等行業客戶提供超純水方案及裝備。

萊特萊德超純水設備配備EDI裝置搭配拋光工藝處理，運行穩定，產水質量高，可達到18MΩ·cm。EDI設備無需酸堿再生，可以節省一定的水處理耗材，且可以節約酸堿清洗用水，同時降低了污染。該超純水設備自動化程度高，有效降低了勞動力的投入，節約了用戶生產成本，提高生產效益，整套設備性能高，使用期限長。

超純水設備在出廠時都需要對設備進行調試，所以設備故障率低，日常維護、保養等操作非常簡單。超純水設備的應用將純水技術提升到一個高度，為各行業的水處理提供高效技術支撐。